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    LCD广泛应用解析

    来源: 时间:2021-11-04 16:41:47 浏览次数:

    一般而言,降低成本已成为企业赖以生存的重要法则。纵观 TFT- LCD 的发展历程,不难发现,增大玻璃基板尺寸、减少掩模版数量、提升基台产能和产品良率以及就近采购原材料等方式,是众多 TFT- LCD 生产企业不断努力的方向。

    一般而言,降低成本已成为企业赖以生存的重要法则。纵观 TFT- LCD 的发展历程,不难发现,增大玻璃基板尺寸、减少掩模版数量、提升基台产能和产品良率以及就近采购原材料等方式,是众多 TFT- LCD 生产企业不断努力的方向。玻璃基板是生产 TFT- LCD 的重要原材料,其成本约占 TFT- LCD 总成本的 15% ~18%,从第一代线(300mm ×400mm)发展到如今的第十代线(2,850mm ×3,050mm),才经历了短短的二十年时间。

      然而,由于 TFT- LCD 用玻璃基板对化学组成、性能以及生产工艺条件都要求极高,使得全球的 TFT- LCD 用玻璃基板生产技术和市场长期以来都一直被美国康宁、日本旭硝子和电气硝子等少数几家企业所垄断。在市场发展的强烈推动下,我国大陆于 2007 年也开始积极参与到 TFT- LCD 用玻璃基板的研发和生产行列中,目前在国内已建成多条五代及以上的 TFT- LCD 玻璃基板生产线,并计划于 2011 年下半年启动两条 8.5 代高世代液晶玻璃基板生产线项目。这为我国大陆TFT- LCD 生产企业上游原材料本地化配套、大幅度降低制造成本提供了重要保障。

      TFT 生产技术最为核心的部分是光刻工艺,它既是决定产品品质的重要环节,也是影响产品成本的关键部分。而在光刻工艺中,最受人们关注的就是掩模版,其质量在很大程度上决定了 TFT- LCD的品质,而其使用数量的减少可有效削减设备投资、缩短生产周期。

      随着 TFT 结构的变化和生产工艺的改进,其制造过程中使用掩模版的数量也在相应地减少。由此可见,TFT 生产工艺从早期的 8掩模版或 7掩模版光刻工艺发展到目前普遍采用的5掩模版或 4掩模版光刻工艺,大大地缩减了 TFT- LCD 生产周期和生产成本。

      目前,4掩模版光刻工艺已成为业界主流。为了不断降低生产成本,人们一直在努力探索如何进一步减少光刻工艺流程中掩模版的使用数量。近年来,一些韩国企业在 3掩模版光刻工艺的开发上取得了突破性进展,并已宣告实现量产,但由于 3掩模版工艺技术难度大、良品率也较低,目前还在进一步的发展和完善中。从长远的发展来看,如果 Inkjet(喷墨)打印技术取得突破,实现无掩模制造才是人们追求的终极目标。

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